20.03.06

20.3.2006: Meldung: Aixtron AG: Großauftrag aus Korea

Führender Chip-Hersteller in Korea erweitert DRAM Produktionsstätte mit bewährten Genus LYNX3 300 mm CVD Anlagen

Aachen - 20. März 2006 - Aixtron AG, ein führender Anbieter von Depositions-Anlagen für die Halbleiter-Industrie, gab heute den Erhalt eines Großauftrags für das 300 mm CVD LYNX3-System im vierten Quartal 2005 bekannt. Die Auslieferung der Systeme wird für das erste Halbjahr 2006 erwartet.

Der Auftrag kennzeichnet den Erfolg von Aixtrons Strategie der Diversifizierung seiner Gasphasentechnologie in den Silizium-Halbleiter-Markt. So stieg im Wesentlichen durch den Verkauf von CVD-Anlagen der im März 2005 erworbenen Aixtron-Tochtergesellschaft Genus,Inc. der Anteil der Umsatzerlöse aus dem Verkauf von Silizium-Halbleiter-Anlagen am Gesamtumsatz von 1% im Geschäftsjahr 2004 auf 23% im Geschäftjahr 2005.

Technische Details

Der Kunde wird mit diesen Anlagen seinen Produktionsstandort für DRAM-Speicherbausteine mit Strukturen unter 80 nm erweitern.

Hauptkunden der Genus CVD-Anlagen sind die wichtigsten Halbleiterhersteller für DRAM- und FLASH-Speicherbausteine. Für die Beschichtung mit Wolframsilizid (WSix), das hauptsächlich in Speicherbausteinen eingesetzt wird, hat sich das patentierte LYNX3-Prozesskammerkonzept durchgesetzt.

Die mit den Genus-Anlagen hergestellten Wolframsilizid-Schichten werden für fortgeschrittene Speicheranwendungen gebraucht und bieten dem Kunden viele Vorteile wie eine robuste Funktion und Stabilität gegenüber nachfolgenden Beschichtungsschritten bei hohen Temperaturen.

Zusammen mit den Aixtron ALD- und AVD®-Systemen bildet die Genus Wolframsilizid-CVD Plattform einen umfassenden Bestand sich ergänzender Halbleiterplattformen. Die Handhabung und Wartung der Genus CVD- und ALD-Anlagen werden durch das einheitliche Systemdesign sehr vereinfacht. Diese Eigenschaften sind der Schlüssel für niedrige Betriebskosten und den erfolgreichen Einsatz für hochentwickelte Halbleiterprozesse.

Aixtron wird den technischen Stand ihrer Entwicklungsteams während der Semicon China (21.-23. März 2006) vorstellen. (Stand-Nr. 2679 in Halle 2).

Aixtron veranstaltet - parallel zur Konferenz - ein Seminar (22. März 2006) unter der Leitung von Dr. Tom Seidel, technischer Direktor von Genus. Das Seminar wird einen Überblick über die Aktivitäten von Aixtron und Genus vermitteln und einen fundierten Einblick in die 300 mm CVD (ALD-AVD®) Fertigungsstandards und Möglichkeiten der Atomic Level SolutionS™ erlauben.

Weitere Informationen über Aixtron (FSE: AIX, ISIN: DE0005066203; NASDAQ: AIXG, ISIN: US0096061041) sind im Internet unter www.aixtron.com verfügbar.

Kontakt:
Investor Relations and Corporate Communications
Aixtron AG, Kackertstr. 15-17, 52072 Aachen, Germany
Phone: +49 241 8909 444, Fax: +49 241 8909 445, invest@aixtron.com
www.aixtron.com
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