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24.1.2003: Meldung: Aixtron AG kauft Patent-Portfolio
AIXTRON erweitert sein Patent-Portfolio für Atomic Vapor Deposition (AVD)
Aachen, 23. Januar 2003 - AIXTRON gibt den Erwerb eines Patent- und Lizenzportfolios für die TriJet-Technologie des französischen Unternehmens J.I.P.ELEC bekannt. Diese Erweiterung von AIXTRONs bestehenden Patent Portfolios unterstützt die technologischen Möglichkeiten der TriJet-Technik in AIXTRONs Tricent-Anlagen. Die TriJet-Technik stellt die hochreproduzierbare Zuführung und Verdampfung flüssiger Ausgangsstoffe sicher, was wichtig ist, wenn in AIXTRONs Tricent-Anlagen AVD-Technologie zur Herstellung von Oxid-Materialien betrieben wird. Diese fortschrittliche Technologie bietet signifikante Vorteile gegenüber den übrigen am Markt vorhandenen Verfahren.
Die TriJet-Technik ist integraler Bestandteil von AIXTRONs Atomic Vapor Deposition (AVD) Technologie, welche weltweit als einzige alle Vorteile von MOCVD-Prozessen mit der atomaren Schichtdickenkontrolle verbindet und dabei höchsten Wafer-Durchsatz ermöglicht. Dieses Verfahren wird bei den enorm gestiegenen Anforderungen im Bereich hoch-integrierter CMOS-Bauelemente zukünftig eine wichtige Schlüsselfunktion übernehmen.
Bisher war AIXTRON exklusiver Lizenznehmer von J.I.P.ELEC und hielt eine 7,4%ige Beteiligung an dem Lieferanten für Module und Systeme für Halbleiter-Prozessierung. In der Transaktion veräußerte AIXTRON diese Beteiligung an J.I.P.ELEC zurück, erwarb das Patent- und Lizenzportfolio bzgl. der TriJet-Technik von J.I.P.ELEC und gewährte J.I.P.ELEC für bestimmte Nischenbereiche Lizenzen auf diese Patente.
Zusätzlich übertrug J.I.P.ELEC eine vorher exklusive Lizenz für ein Patent im Besitz der staatlichen Forschungseinrichtung CNRS (Frankreich) exklusiv auf AIXTRON. Wiederum erteilte AIXTRON eine Sublizenz für bestimmte Nischenanwendungen an J.I.P.ELEC zurück. Die getroffenen Vereinbarungen erfolgten auch im Zuge der angekündigten Übernahme von J.I.P.ELEC durch Qualiflow, Frankreich.
In Fortführung von AIXTRONs Outsourcing-Strategie wird nach der Übernahme von J.I.P.ELEC durch Qualiflow der TriJet von Qualiflow als dem alleinigen Zulieferer gefertigt.
Tim McEntee, Vorstand von AIXTRON kommentiert: "Der Erwerb der Patente und exklusiven Lizenzen von J.I.P.ELEC ist ein Schritt zur Sicherung und zum Ausbau unserer Technologieführerschaft - eines unserer wichtigsten strategischen Ziele. Wir sind stolz darauf, dass uns nun weitere Patente und exklusive Lizenzen einer wichtigen Komponente unserer vielversprechenden Tricent-Technologie gehören. Wir freuen uns auf eine erfolgreiche Zusammenarbeit mit Qualiflow, in deren Rahmen wir den TriJet auch für unsere Atomic Vapor Deposition Technologie weiter optimieren werden."
AIXTRONs vollautomatisierte Anlagenreihe Tricent wurde zur Herstellung von Materialien entwickelt, die bei der Realisierung der kommenden Generation von integrierten Schaltkreisen für die Datenübertragungs- und Verarbeitungstechnik eine Schlüsselfunktion einnehmen wird. Diese hochentwickelten Schaltkreise beinhalten dünne Schichten hochkomplizierter metallischer und oxidischer Materialien und bestehen bspw. aus 54 Millionen Transistoren in kritischen Abmessungen von unterhalb 100 nm (1 nm = ein Millionstel mm) sowie 9 km interner elektrischen Verbindungen auf dem Chip. Bereits seit Jahren haben verschiedene AIXTRON Kunden - u.a. ST Microelectronic (Frankreich), NDL (Taiwan), Fraunhofer Institut, FZ Jülich, Universität Magdeburg (Deutschland), Universität Liverpool (UK) - Tricent-Anlagen installiert und erzielen damit vielversprechende Resultate. Unter Verwendung von AIXTRONs HeteroWafer-Technologie kann die Tricent-Anlage auch zur Herstellung weiterer Schlüsselmaterialien künftiger IT- Chips - Silizium-germanium und Strained Silicon - eingesetzt werden.
For further information please contact:
Dr. Claus Ehrenbeck
Head of Investor Relations and
Corporate Communications
AIXTRON AG
Kackertstr. 15 - 17
D-52072 Aachen, Germany
Phone:+49 241 8909 444
Fax: +49 241 8909 445
E-mail: [email protected]
Aachen, 23. Januar 2003 - AIXTRON gibt den Erwerb eines Patent- und Lizenzportfolios für die TriJet-Technologie des französischen Unternehmens J.I.P.ELEC bekannt. Diese Erweiterung von AIXTRONs bestehenden Patent Portfolios unterstützt die technologischen Möglichkeiten der TriJet-Technik in AIXTRONs Tricent-Anlagen. Die TriJet-Technik stellt die hochreproduzierbare Zuführung und Verdampfung flüssiger Ausgangsstoffe sicher, was wichtig ist, wenn in AIXTRONs Tricent-Anlagen AVD-Technologie zur Herstellung von Oxid-Materialien betrieben wird. Diese fortschrittliche Technologie bietet signifikante Vorteile gegenüber den übrigen am Markt vorhandenen Verfahren.
Die TriJet-Technik ist integraler Bestandteil von AIXTRONs Atomic Vapor Deposition (AVD) Technologie, welche weltweit als einzige alle Vorteile von MOCVD-Prozessen mit der atomaren Schichtdickenkontrolle verbindet und dabei höchsten Wafer-Durchsatz ermöglicht. Dieses Verfahren wird bei den enorm gestiegenen Anforderungen im Bereich hoch-integrierter CMOS-Bauelemente zukünftig eine wichtige Schlüsselfunktion übernehmen.
Bisher war AIXTRON exklusiver Lizenznehmer von J.I.P.ELEC und hielt eine 7,4%ige Beteiligung an dem Lieferanten für Module und Systeme für Halbleiter-Prozessierung. In der Transaktion veräußerte AIXTRON diese Beteiligung an J.I.P.ELEC zurück, erwarb das Patent- und Lizenzportfolio bzgl. der TriJet-Technik von J.I.P.ELEC und gewährte J.I.P.ELEC für bestimmte Nischenbereiche Lizenzen auf diese Patente.
Zusätzlich übertrug J.I.P.ELEC eine vorher exklusive Lizenz für ein Patent im Besitz der staatlichen Forschungseinrichtung CNRS (Frankreich) exklusiv auf AIXTRON. Wiederum erteilte AIXTRON eine Sublizenz für bestimmte Nischenanwendungen an J.I.P.ELEC zurück. Die getroffenen Vereinbarungen erfolgten auch im Zuge der angekündigten Übernahme von J.I.P.ELEC durch Qualiflow, Frankreich.
In Fortführung von AIXTRONs Outsourcing-Strategie wird nach der Übernahme von J.I.P.ELEC durch Qualiflow der TriJet von Qualiflow als dem alleinigen Zulieferer gefertigt.
Tim McEntee, Vorstand von AIXTRON kommentiert: "Der Erwerb der Patente und exklusiven Lizenzen von J.I.P.ELEC ist ein Schritt zur Sicherung und zum Ausbau unserer Technologieführerschaft - eines unserer wichtigsten strategischen Ziele. Wir sind stolz darauf, dass uns nun weitere Patente und exklusive Lizenzen einer wichtigen Komponente unserer vielversprechenden Tricent-Technologie gehören. Wir freuen uns auf eine erfolgreiche Zusammenarbeit mit Qualiflow, in deren Rahmen wir den TriJet auch für unsere Atomic Vapor Deposition Technologie weiter optimieren werden."
AIXTRONs vollautomatisierte Anlagenreihe Tricent wurde zur Herstellung von Materialien entwickelt, die bei der Realisierung der kommenden Generation von integrierten Schaltkreisen für die Datenübertragungs- und Verarbeitungstechnik eine Schlüsselfunktion einnehmen wird. Diese hochentwickelten Schaltkreise beinhalten dünne Schichten hochkomplizierter metallischer und oxidischer Materialien und bestehen bspw. aus 54 Millionen Transistoren in kritischen Abmessungen von unterhalb 100 nm (1 nm = ein Millionstel mm) sowie 9 km interner elektrischen Verbindungen auf dem Chip. Bereits seit Jahren haben verschiedene AIXTRON Kunden - u.a. ST Microelectronic (Frankreich), NDL (Taiwan), Fraunhofer Institut, FZ Jülich, Universität Magdeburg (Deutschland), Universität Liverpool (UK) - Tricent-Anlagen installiert und erzielen damit vielversprechende Resultate. Unter Verwendung von AIXTRONs HeteroWafer-Technologie kann die Tricent-Anlage auch zur Herstellung weiterer Schlüsselmaterialien künftiger IT- Chips - Silizium-germanium und Strained Silicon - eingesetzt werden.
For further information please contact:
Dr. Claus Ehrenbeck
Head of Investor Relations and
Corporate Communications
AIXTRON AG
Kackertstr. 15 - 17
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