05.02.04

5.2.2004: Mit Plasmatechnik sollen Silizium-Wafer dünner werden - Shell Solar und Fraunhofer beteiligen sich an einem Projekt

Ein Projekt von Shell Solar Gelsenkirchen, OTB Niederlande, dem Institut für Halbleitertechnik in Aachen und dem Fraunhofer ISE Labor- und Servicecenter will die Herstellung kostengünstigerer Silizium-Solarzellen ermöglichen. Mit Plasmatechnik solle der Wirkungsgrad der Wafer erhöht und damit die Produktion dünnerer Solarzellen ermöglicht werden, heißt es in einer Pressemitteilung von Shell Solar.

Ein entscheidender Kostenfaktor beim bisherigen Herstellungsprozess sei die Entfernung des Phosphorglases von der Zellenoberfläche mittels Chemikalien (Ätzschritt). Nun werde versucht, diese Schicht durch einen Trocken-Ätzprozess mittels Plasma zu entfernen. "Ein derartiger Plasma-Prozess ist kostengünstiger, umweltfreundlicher und verbessert auch die Ökobilanz der Photovoltaik", behauptet Shell Solar.

Ein weiterer Vorteil sei, dass in einer Plasma-Jet-Anlage auch andere Herstellungsschritte wie die Passivierung der Zellenvorder- und -rückseite mit Stickstoffglas und Wasserstoff ablaufen könnten. Die Passivierung verringere die Wärmebelastung der Solarzellenschichten und erhöhe ihren Wirkungsgrad. So könnten dünnere und kostengünstigere Wafer entstehen.

Reines Silizium für die Solarzellenproduktion ist sehr teuer. Laut Shell Solar kann Solarstrom daher wirtschaftlich immer noch nicht mit konventionellen Energiearten konkurrieren. Die Preise für Solar-Silizium hätten sich seit 1995 verdreifacht. Eine Lösung wird von der Produktion wesentlich dünnerer Solarzellen erwartet. Shell Solar will die technologischen Fortschritte in die Entwicklung einer dritten Produktionslinie der Solarzellenfabrik in Gelesenkirchen einfließen lassen.
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